濺射鉬靶材因其本身優點，已經在電子行業、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的使用。隨著現代科技微型化、集成化、數字化、智能化的快速發展，鉬靶材的用量將持續增長，對其質量要求也必將越來越高。所以就需要想辦法提高鉬靶材利用率，現在小編為大家介紹幾種提高濺射鉬靶材的利用率的方法。

01反面加電磁線圈

想提高濺射鉬靶材的利用率，可以在平面的磁控濺射鉬靶材的反面加上一圈電磁線圈，經過增加電磁線圈的電流來增大鉬靶材外表的磁場，以提高鉬靶材的利用率。

02選用管狀旋轉靶材

與平面靶材相比，選用管狀旋轉靶材結構就凸顯出它的實質性優勢，一般平面靶材的利用率僅為30%~50%，而管狀旋轉靶材的利用率則可以達到80％之上。不僅如此，使用旋轉空心圓管磁控濺射靶時，由于靶材可繞固定的條狀磁鐵組件一直旋轉，所以在它的外表不會產生重沉積現象，所以一般旋轉靶的壽命要比平面靶材高5倍不止。

03更換新式濺射設備

提高靶材利用率的關鍵在于完成濺射設備的更新換代。鉬濺射靶材在濺射進程中靶材原子被氫離子撞擊出來后，約六分之一的濺射原子會淀積到真空室內壁或支架上，增加清潔真空設備的費用及停機時間。所以更換新式濺射設備也有助于提高濺射鉬靶材的利用率。